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光刻胶“隐形冠军”恒坤新材上市在即 国产半导体材料突围进行时

在中国半导体产业自主化的浪潮中,一批“隐形冠军”正悄然崛起。近日,厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新材”)在科创板的IPO注册已获生效,距离正式登陆资本市场仅一步之遥。这家来自厦门海沧区的企业,凭借近二十年的技术积累与战略转型,成功打破国外在高端

上市 半导体材料 arf 光刻胶 半导体材料突围 2025-11-18 09:29  1

光刻胶树脂,未来几年年复合增长率CAGR为6.5%

半导体光刻胶树脂是半导体制造核心环节——光刻工艺中的关键材料,其本质是一种对特定波长光敏感的高分子聚合物。这类树脂通过在晶圆表面形成一层均匀薄膜,在曝光、显影后准确地将光掩膜版上的精细图形转移到芯片上。其性能直接决定了光刻分辨率、线条粗糙度和缺陷密度,是实现摩

树脂 arf 光刻胶 cagr 光刻胶树脂 2025-10-30 23:13  2

中国打造自己的EUV光刻胶规范

有个统一的测评规则,大家好办多了。现在不同实验室、不同厂家的测试方法五花八门,谁的数据能放一块儿比,常常比着来比着去没个准儿。这个标准一旦走完程序,按现在的节奏看,有望在2026年正式出来,对国产EUV光刻胶的研发和检验会起到挺实在的参照作用。

光刻机 arf 光刻胶 euv euv光刻胶 2025-10-29 10:18  2

“光刻胶+芯片”盈利最强的8家A股公司!

光刻胶被称为芯片制造的“精密画笔”,直接决定芯片制程精度与良率,长期以来高端市场被日美企业垄断。如今随着北大团队通过冷冻电子断层扫描技术破解光刻胶分子结构难题,叠加国内晶圆厂产能扩张,2025年国内光刻胶市场规模将达123亿元,国产替代进入爆发期。一批本土企业

芯片 中芯国际 a股 arf 光刻胶 2025-10-28 19:51  2

光刻胶:北大团队方案让光刻胶缺陷降99%!光刻胶研发迈入新阶段

近日,北京大学彭海琳教授团队及其合作者,通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,分辨率优于5纳米。这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为,更指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方

北大 arf 光刻胶 显影液 引发剂 2025-10-28 13:37  2

中国打造自己的EUV光刻胶标准!

电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者,而制造芯片的重要设备光刻机就是雕刻这个结晶的“神之手”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。

光刻机 arf 光刻胶 euv euv光刻胶 2025-10-28 14:42  2

冷冻电镜破光刻胶难题!国产替代加速,这八家潜力股崛起迎机遇

近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然・通讯》。

电镜 冷冻电镜 潜力股 arf 光刻胶 2025-10-27 23:08  2

我国首个EUV光刻胶标准公示:半导体材料“卡脖子”环节迎破

10月23日,国家标准委网站一则公示信息,让国内半导体产业界为之振奋——我国首个《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》拟立项标准正式进入公示期,公示截止时间为11月22日。作为EUV光刻胶领域的首个国家标准,其背后不仅是技术标准化的突破,更意味着我国在半导体“卡脖

半导体材料 arf 光刻胶 euv euv光刻胶 2025-10-28 04:07  2

大利好!市场2大风险已经消除

市场全天震荡走强,沪指逼近4000点关口,继续刷新年内新高,创业板指涨近2%。截至收盘,上证指数涨1.18%,深证成指涨1.51%,创业板指涨1.98%。全市个股涨多跌少,全市上涨个股超3300只;全市全天成交2.31万亿元,较上一日放量成交3750亿元,内资

利好 中芯国际 风险 arf 光刻胶 2025-10-27 17:21  2